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    半導體工業用超純水的制備過程詳解

    2020/10/12 10:03:26      點擊:

    純水設備www.westhillranches.com半導體超純水設備主要用于高技術的工業生產過程,尤其是半導體這種要求較高的技術尖端行業,對水質要求非常嚴格。

    半導體用水中K+Na+Cu2+Zn2+Fe2+Cr6+Mn2+等金屬離子含量都要在ppb級以下,總硅小于3ppbTOC小于50ppb,電阻率在18M·cm以上,水質中及其微量的雜質原子都會對產品造成極大的影響。

      半導體超純水設備之預處理系統

      一般水源水都難以滿足超純水的要求,在超純水的和制備過程中,預處理是非常必要的。絮凝沉淀、氧化、吸附是最常用的預處理工藝流程。原水中加入絮凝劑或采用電解絮凝方式,可以去除懸浮物、膠體和少部分有機物。氧化主要是去除易生物降解的有機物和氨氮。吸附同樣去除水中的懸浮物和膠體。

      半導體超純水設備之深度處理系統

      超純水的深度處理工藝需要采用最有效的水處理材料和最先進的水處理單元裝置,最常用的就是反滲透設備,反滲透是現代超純水制備的核心。超純水處理工藝一般為:原水多介質過濾器活性炭過濾器精密過濾器保安過濾器反滲透裝置混床超濾設備超純水。終端的超濾設備可進一步降低微粒和細菌的含量。

      半導體超純水設備的制備過程主要以預處理和深度處理兩大系統為主,完全按照超純水要求制備,嚴格控制出水水質指標,保證工業生產和產品的品質。去離子水設備,超純水設備及軟水處理設備。純水設備實驗室純水設備


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